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【协力研究】知识产权|最高院专利案件裁判规则(八):集成电路布图设计侵权判定

作者:王晓媛 知识产权实习律师 来源:协力苏州知识产权业务部 日期:2021/4/15 9:34:18 人气:594

编者按:

改革开放四十年,我国知识产权保护逐渐实现由弱保护到强保护的转变。在此大背景下,上海市协力(苏州)律师事务所高级合伙人王乃莹律师带领的知识产权团队以近年来最高人民法院裁判的案例为引,编写最高院专利案件裁判规则系列文章,该系列文章将涉及专利权属、专利侵权、专利无效等专利纠纷案件裁判规则的解读,供大家参考。


贸易战发生后,我国的芯片产业不仅没有被击垮,反而迎来了发展大繁荣的“芯时代”[1]。为便于芯片相关企业对创新的保护,特在研读2020年技术类知识产权典型案例“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案(案号:(2019)最高法知民终490号)的基础上,结合最高院及部分高院的其他集成电路布图设计(下称“布图设计”)相关判例、《集成电路布图设计保护条例》(下称“条例”)、《集成电路布图设计保护条例实施细则》(下称“实施细则”),对布图设计的审判规则等相关内容做一集中梳理。


案情回顾[2][3]

被上诉人(一审原告)苏州赛芯电子科技有限公司(下称“赛芯公司”)是名称为“集成控制器与开关管的单芯片负极保护的锂电池保护芯片”的集成电路布图设计专有权的权利人,在专有权处于有效状态期间,发现被上诉人(一审被告)裕昇科技有限公司等(下称“裕昇公司”、“被告”)可能存在侵害其布图设计专有权的侵权行为,遂向法院起诉。

起诉时,赛芯公司指控裕昇公司以复制、销售的方式侵犯了其布图设计专有权,并提供了如下证据:

(1) 提供被告以复制、销售方式实施侵权行为的公证证据;

(2) 提供布图设计的6个独创点及相关文字说明、与各独创点对应的现有常规设计;

(3) 申请司法鉴定,确定裕昇公司所生产、销售的芯片中应用的布图设计与其布图设计构成相同或实质相同。

 

为查明案件事实,一审法院向国家知识产权局调取了上述布图设计的相关材料。由于涉案布图设计的登记申请日在其首次投入商业利用之后,因而在申请登记时,除提供布图设计的图样纸质件外,赛芯公司同时提交了该集成电路的样品,并附上了图样的电子版本。法院调取的相关材料包括芯片样品以及布图设计图样A4复印件。

鉴定机构出具的《司法鉴定意见书》(下称“意见书”)显示,由于涉案布图设计登记备案的纸质图样模糊不清,独创点无法体现,便基于其备案样品的剖片与被诉芯片进行比对。此外,赛芯公司在一审中对其“6个独创点内容”中的独创点5进行了修改,鉴定机构基于修改后的独创点进行鉴定,得出被诉芯片中的布图设计与涉案布图设计中的独创点5相同,独创点1-4、6实质相同,且独创点1-6具有独创性。

一审判决中,法院对鉴定意见予以全部采信,同时基于原告提供的以上证据,认定裕昇公司所实施的复制、销售行为构成对原告布图设计专有权的侵犯,应承担相应的法律责任。

裕昇公司不服,提起上诉,其提出的主要理由及赛芯的答辩请参表 1:


表 1 主要的上诉事实、理由及答辩理由


基于裕昇公司的上诉请求,赛芯公司在二审中提交补充证据,对涉案布图设计的设计完成时间进行举证,并提供其法定代表人与数被告之一在案件近两年中的按月转账记录,以证明后者对涉案布图设计的接触可能。

二审程序中,最高院根据当事人的诉讼请求与辩论意见,对本案的争议焦点进行了归纳,主要涉及:

(1) 根据裕昇公司所提出的鉴定中的实体与程序问题,意见书是否应被采信;

(2) 裕昇公司是否实施了侵权行为。


  集成电路布图设计的基础知识

一、什么是集成电路布图设计?


图 1布图设计的保护对象


根据条例,所谓集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;其中的集成电路是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。由此可知,布图设计保护范围限于集成电路布图设计,分立器件及其组成的电路板、PCB等相关内容不受布图设计的保护。

此外,布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或数学概念,因此,电路原理、工艺等相关内容也不受布图设计的保护。


二、如何取得布图设计专有权?


图 2 布图设计申请登记的材料


集成电路布图设计采用专门法模式——登记保护主义,即,布图设计的保护以登记为前提,不论是否投入商业使用,这既不同于专利法的公开换保护制度,也不同于著作权的自动产生制度(即,作品创作完成之日自动产生著作权,不以著作权人登记为获权条件)。


三、是否只能以登记时已经公开的内容确定保护范围?


在“锂电池保护芯片”的典型案例中,争议焦点之一是裕昇公司上诉时所提出的,布图设计专有权是以“公开换保护”,专有权的保护范围应限于对公众公开的部分。


图 3布图设计的保护边界及公众权利


对此做如下阐释及更正:众所周知,专利的保护制度是公开换保护,然,布图设计不同于专利,其保护不以权利人公开为前提。根据条例及其实施细则,布图设计登记公告后,公众可以请求查询该布图设计的复制件或图样的纸件,但,电子版本的复制件或图样,或者已投入商业利用的布图设计纸件中涉及的保密信息,除侵权诉讼或行政处理程序需要外,任何人不得查阅或复制,即,上述内容并没有对公众无条件全部公开,但依旧享有布图设计的权利保护。


四、如何确定布图设计的保护范围?


在“锂电池保护芯片”的典型案例中,争议焦点包括裕昇公司上诉时所提出的鉴定意见直接以样品确定布图设计的保护范围错误,能否以样品剖片确定登记的布图设计的保护范围呢?哪些材料可以作为确定保护范围的比对基准呢?

根据条例及其实施细则做出如下阐释:


图 4 布图设计范围确定的基准


在确定布图设计的保护范围时,一般应根据申请登记时所提交的复制件或图样的纸件为基准确定。但随着芯片集成度的提高,即使按照实施细则第十四条规定“复制件或者图样的纸件至少放大到该布图设计生产的集成电路的20倍以上”,仍可能存在复制件或图样的纸件放大倍数尚不足以完整、清晰的反映布图设计内容。此时,在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下,可采用样品剖片,通过技术手段精确还原出芯片样品所包含的布图设计的详细信息,提取其中的三维配置信息,确定纸件中无法识别的布图设计细节,以此确定保护范围。


五、布图设计是否有保护期限?


图 5布图设计的事件时间轴


布图设计具有保护期限,根据条例及其实施细则,布图设计的专有权自申请日起生效,保护期为10年,该保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起算且以较前日期为准。但需注意,若布图设计在完成之日起15年后都未进行申请登记,则也不再受该条例保护。


布图设计侵权判定的分析思路

一、什么是侵权行为?


根据条例,侵权行为主要包括两大类:

(1)复制布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分的行为

  • 该行为中的“复制”不同于著作权中的“复制”(注:著作权中的“复制”方式为印刷、复印、拓印、录音、录像、翻录、翻拍等,主要针对的是极具文艺性质的作品,而非工业手段下工业产品的制作或生产方式),对于布图设计的复制行为,例如,A公司如生产被控侵权芯片,则其在生产过程中必然复制涉案保护的布图设计,构成侵权;

  • 为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计,不视为侵权;

  •  在分析他人布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计,不视为侵权;即,通过反向工程的方式重新设计的布图设计,不视为侵权;

  •  对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或将其投入商业利用的,不构成侵权;即,通过正向工程的方式设计的布图设计,不视为侵权;

(2)为商业目的进口、销售或以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品的行为

在此类行为中,若含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品是通过购买等正规途径获得,即,拥有合法来源,则不视为侵权。


二、布图设计的侵权判定原则是什么?


布图设计侵权判断过程采用“接触 + 相同/实质相同 – 合法来源”的原则,具体如下:

(1)被诉侵权人是否具有接触布图设计的可能性

对于该“接触”,专有权人应举证证明被诉侵权人在被诉侵权行为发生前,具有接触涉案布图设计的可能性,而不要求其举证证明已经实际接触,对于本案中,赛芯公司通过提供按月向被告之一支付报酬作为其销售费用的信息证明被告有接触该布图设计的可能性即可完成“接触”的举证责任。

(2)被诉侵权芯片与涉案布图设计是否构成相同或实质相同

首先确定被诉芯片所含的布图设计是否与涉案布图设计相同或部分相同,其次,再对相同部分是否具有独创性进行认定,如相同部分具有独创性,则由于受保护的布图设计中任何具有独创性的部分均受法律保护,而构成侵权,而无论该相同部分在整份布图设计中的大小或所起的作用。

其中,两项布图设计是否相同或实质相同、相同部分是否具有独创性需要委托专业机构进行鉴定。

(3)获得的被诉侵权芯片是否具有合法来源

根据条例,在获得含有受保护的布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品时,不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计而将其投入商业利用的,不视为侵权。

但适用该规定的前提条件之一是通过购买等途径从他人处获得该保护的布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品,上述集成电路或含有该集成电路的物品的制造者不适用该规定[3]。

由上可知,布图设计的侵权判断原则在一定程度上与商业秘密的判断原则相一致。

 

三、如何证明布图设计的独创性?

根据条例,独创性包括两层含义:自己独立设计完成 + 不属于创作时公认的常规设计。但布图设计在登记过程中不实质审查独创性,因此,不能以经过登记备案而理所当然地认为布图设计的整体或任何部分均具有独创性。

独创性的证明标准包括该布图设计不是公认的常规设计,属于无法直接证明的消极事实,但可间接证明,即积极事实的主张者若想否定消极事实主张者的主张,只需简单举出反正即可;若被诉侵权人不能证明其主张,则需承担对其不利的法律后果[5]。

在侵权判断中,对于独创性的举证责任,法院在充分考虑布图设计的特点、目前我国布图设计的登记现状、双方的举证能力等因素,以权利人提出的独创性部分为依据:

(1)由权利人提出独创性部分,同时对独创性部分进行充分说明或初步证明

权利人在对独创性进行说明时,可以从不同角度对独创性部分进行概括或抽象,而不一定包括对三维配置内容的描述。

(2)由被诉侵权人就不具有独创性提出相反证据

被诉侵权人在举证时,仅需提供一份已经公开的常规布图设计即可推翻权利人主张的独创性内容,但在举证过程中,需加强对“布图设计”的深刻理解,注意工艺、电路原理图、芯片实现的功能等与布图设计密切相关但又与布图设计不同的区分度,换言之,不可以工艺、电路原理图、芯片实现的功能作为独创性的抗辩理由。


布图设计专有权被诉时的应对策略


在遇到布图设计专有权被侵犯的起诉时,被诉企业可从如下方面入手进行破解:

(1) 合法来源抗辩

若被诉企业不是涉案布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品的制造者,则可以通过采购合同、发票等材料证明所获得的被诉侵权产品是从他人处获得,具有合法来源;

(2) 不具有接触涉案布图设计的可能性

被诉企业证明其未接触涉案布图设计图纸或产品或者不存在接触的可能性

(3) 涉案布图设计不具有独创性

检索现有设计,提供一份已经公开的常规布图设计即可推翻权利人主张的独创点,该策略类似于专利侵权诉讼中的现有技术抗辩。

在检索现有设计时,需区分工艺与布图之间的关联性与不同点(例如,电容的排列方式可属于布图设计的一部分,但用几个电容则属于工艺而不是电容[4]),还需注意电路原理图、芯片制作过程中的相关工艺等不能作为现有布图设计的证据。此外,若检索到的现有设计属于登记的布图设计,则需提供具体的布图设计内容,且剖片比对的费用亦需考虑[2]。

(4) 整理布图设计创作过程中的材料,从“独立创作”入手

根据条例,对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或将其投入商业利用的,不视为侵权。因此,企业可对归档的布图设计创作材料进行梳理,证明所用布图设计是自己独立创作的,以此达到不侵权的抗辩;

(5) 尝试向专利复审委提出撤销意见,请求复审委撤销

此策略类似于专利侵权诉讼中所采取的专利无效手段,根据条例及其实施细则的规定,专有权的撤销主体只能是国务院知识产权行政部门(我国实际由专利复审委承担),虽然未规定第三人亦可撤销,但根据近年的案例[4],可作为一种尝试手段——向专利复审委提出布图设计专有权的撤销意见,由专利复审委启动撤销程序。


布图设计侵权赔偿数额的确定


根据条例及其实施细则,赔偿数额为侵权人所获得的利益或被侵权人所受到的损失,包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。若被侵权人无法证明侵权人获得的利益或其所遭受的损失,则可考虑被侵权人的研发投入、侵权行为的性质、被诉芯片的市场价值和被侵权人为制止侵权行为所支付的合理费用等因素予以确定。


对芯片企业的建议


集成电路产业在蓬勃发展的进程中,企业不仅需要通过专利、商业秘密、著作权等方式对创新方案进行保护,更需要通过集成电路布图设计给予保护。2020年的“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案是最高院受理的首例侵害集成电路布图设计专有权纠纷的二审案件,该案判决明确了布图设计登记行为的性质,以及布图设计独创性判断的基本思路。

根据上述梳理的布图设计的相关知识及审判规则,企业在后续对芯片进行保护时,需针对不同的保护对象采取不同类型的知识产权类型予以保护。


表 2 布图设计与专利、著作权三种权利之间的比较


此外,在布图设计的创作中,需归档管理相关的过程性文件,以证明该布图设计是自己独立创作的,作为不侵权抗辩;而在申请登记布图设计时,需注意:

  •  提交的复制件或图样的纸质件尽可能清晰,如不清晰,且在申请登记时未投入商用,则登记时并未样品,此时保护范围可能因纸质件模糊不清而可能会缩小,甚至是无法确定,导致权利人无法很好地行使权利;即使在登记时提供了样品,则在维权过程中,需采用样品的剖片作为比对,鉴定难度和费用会增加; 

  • 虽然在申请登记时复制件或者图样的电子版本并非必须提交,但为便于后续的维权,建议申请登记时提交电子版本,该电子版本中虽然包含了布图设计的全部信息,但由于条例对公众权利的限制性规定,一般情况下,公众并不能直接查阅到布图设计的全部信息和细节信息。

在生产制造过程中做采购时,需妥善保管相关的购销合同、发票、凭证等材料。期待着中国的芯片产业能够因有知识产权的护航而在快速发展的进展中更加稳健!



参考文献



[1] 张军,石子信. 芯时代的知识产权保护.芯愿景Cellix公众号.2021年3月18日 

[2] 深圳裕昇科技有限公司、户财欢侵害集成电路布图设计专有权纠纷二审民事判决书.最高人民法院.(2019)最高法知民终490号

[3] 崔军,覃仪.集成电路布图设计侵权纠纷最新审判规则梳理.知产力公众号. 2021年2月4日

[4] 深圳市华彩威科技有限公司、深圳市明微电子股份有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷二审民事判决书.广东省高级人民法院.(2017)粤民终1145号  

[5] 钜泉光电科技(上海)股份有限公司、深圳市锐能微科技有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷二审民事判决书.上海市高级人民法院.(2014)沪高民三(知)终字第12号

[6] 南京通华芯微电子有限公司与西安民展通讯科技有限公司、成都启达科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷二审民事判决书.江苏省高级人民法院.(2015)苏知民终字第00114号


作者简介

王晓媛

上海市协力(苏州)

律师事务所

实习律师

天津大学电学专业硕士,兼具律师与专利代理人资格,拥有9年多的知识产权工作经验,其中5年光电领域的专利审查工作经验、4年的知识产权培训、分析咨询及企业知识产权管理经验,具有较强的检索能力和逻辑思维能力,可以为企业提供全流程的知识产权管理顾问服务,包括研发人员和企业知识产权管理人员培训、专利查新或无效检索、专利布局和挖掘、商标和著作权管理、知识产权管理制度构建和战略规划、专利侵权分析、知识产权尽职调查等。



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